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半导体设备盯梢:美光被审 怎么看待存储范畴的设备及零部件机会?
半导体设备盯梢:美光被审 怎么看待存储范畴的设备及零部件机会? 时间: 2023-04-15 16:22:27 |   作者: ror平台

  我国将对美光进行安全检查,显示自主可控决计。3 月31 日,依据网信办官网发表,网信办为保证要害信息基础设施供应链安全,对美光公司(Micron)在华出售的产品施行网络安全检查。咱们以为,施行检查一方面利好国内的存储企业的开展;另一方面,此举也显示了我国在存储范畴完成自主可控的决心,利好国内研制发展较快的设备和零部件公司。

  日本跟进美国约束半导体设备的出口,国内零部件等范畴国产代替有望加快。3 月31 日,依据日本经济新闻网,日本政府将约束半导体制作设备等23 种品类的出口,是继荷兰之后,行将实行与美国达到的约束我国进口用于出产顶级半导体的设备的三方协议。在美国制裁我国设备收购之后,国内很多制作企业添加了关于日韩零部件和设备的收购,此次日本的出口约束添加了国内半导体供应链的不稳定性,一起也将敦促国内的FAB 厂和设备公司加强关于国产零部件和设备的验证,国产代替有望加快。

  半导体设备方面,引荐引领存储范畴制程前进的设备公司。现在 128层 3D NAND 闪存已进入大出产,其制作工艺中,刻蚀要在氧化硅和氮化硅的叠层结构上,加工40:1 到60:1 乃至更高的极深孔或极深的沟槽。依据中微公司的年报,公司的等离子体刻蚀设备可应用于64层和128 层的量产,一起公司依据存储器材客户的需求正在开发极深邃宽比的刻蚀设备和工艺,开发的三代CCP 高能等离子体刻蚀机已完成刻蚀60:1 极深邃宽比。因而,咱们引荐在极深邃宽比方面取得打破的中微公司(和广发电子组联合掩盖)。

  设备零部件方面,引荐在特气运送范畴构成竞赛力的零部件公司。3DNAND 层数的添加,要求刻蚀技能完成更高的深宽比,一起添加了刻蚀次数,对刻蚀设备的需求份额进一步加大。且干法刻蚀需求用到很多的特气,其间的特气阀门要求很高的外表洁净度、且需求定时替换,需求量可观,一起特气需求用gas box 进行分配。这些零部件均为国产代替继续进行的要害范畴。咱们引荐Gas box 订单放量的正帆科技和在特气阀门构成竞赛优势的新莱应材,主张重视相同布局Gas box 的富创精细。

  危险提示。国外要害设备制裁加重危险;国内设备验证不及预期危险;国内半导体景气量较弱影响本钱开支的危险。